<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<article xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xsi:noNamespaceSchemaLocation="JATS-archive-oasis-article1-4.xsd" article-type="research-article" dtd-version="1.4" xml:lang="ru">
  <front>
    <journal-meta>
      <journal-title-group>
        <journal-title>Журнал Научное обозрение. Технические науки</journal-title>
      </journal-title-group>
      <issn>2500-0799</issn>
      <publisher>
        <publisher-name>Общество с ограниченной ответственностью &amp;quot;Издательский Дом &amp;quot;Академия Естествознания&amp;quot;</publisher-name>
      </publisher>
    </journal-meta>
    <article-meta>
      <article-id pub-id-type="publisher-id">ART-513</article-id>
      <title-group>
        <article-title>ИССЛЕДОВАНИЕ МЕХАНИЗМОВ ПРОВОДИМОСТИ КОМПОЗИЦИОННЫХ НАНОМАТЕРИАЛОВ НА ОСНОВЕ МНОГОСЛОЙНЫХ ПЛЁНОЧНЫХ СТРУКТУР TA2O5/TIO2</article-title>
      </title-group>
      <contrib-group>
        <contrib contrib-type="author">
          <name-alternatives>
            <name xml:lang="ru">
              <surname>Плотников</surname>
              <given-names>В.В.</given-names>
            </name>
          </name-alternatives>
          <name-alternatives>
            <name xml:lang="en">
              <surname>Plotnikov</surname>
              <given-names>V.V.</given-names>
            </name>
          </name-alternatives>
          <email>Россия (197376</email>
          <xref ref-type="aff" rid="affca7b812f"/>
        </contrib>
        <contrib contrib-type="author">
          <name-alternatives>
            <name xml:lang="ru">
              <surname>Дроздовский</surname>
              <given-names>А.В.</given-names>
            </name>
          </name-alternatives>
          <name-alternatives>
            <name xml:lang="en">
              <surname>Drozdovskii</surname>
              <given-names>A.V.</given-names>
            </name>
          </name-alternatives>
          <email>Россия (197376</email>
          <xref ref-type="aff" rid="affca7b812f"/>
        </contrib>
        <contrib contrib-type="author">
          <name-alternatives>
            <name xml:lang="ru">
              <surname>Шишмакова</surname>
              <given-names>Г.А.</given-names>
            </name>
          </name-alternatives>
          <name-alternatives>
            <name xml:lang="en">
              <surname>Shishmakova</surname>
              <given-names>G.A.</given-names>
            </name>
          </name-alternatives>
          <email>Россия (196084</email>
          <xref ref-type="aff" rid="affe3d6876a"/>
        </contrib>
      </contrib-group>
      <aff id="affca7b812f">
        <institution xml:lang="ru">ФБГОУ ВПО «Санкт-Петербургский Государственный электротехнический университет им. В.И.Ульянова-Ленина (СПбГЭТУ)»</institution>
        <institution xml:lang="en">Saint Petersburg Electrotechnical University “LETI”</institution>
      </aff>
      <aff id="affe3d6876a">
        <institution xml:lang="ru">ОАО НИИ «Феррит-Домен»</institution>
        <institution xml:lang="en">Ferrite Domen Co.</institution>
      </aff>
      <pub-date date-type="pub" iso-8601-date="2014-02-01">
        <day>01</day>
        <month>02</month>
        <year>2014</year>
      </pub-date>
      <issue>2</issue>
      <fpage>110</fpage>
      <lpage>110</lpage>
      <permissions>
        <license xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/">
          <license-p>This is an open-access article distributed under the terms of the CC BY 4.0 license.</license-p>
        </license>
      </permissions>
      <self-uri content-type="url" hreflang="ru">https://science-engineering.ru/ru/article/view?id=513</self-uri>
      <abstract xml:lang="ru" lang-variant="original" lang-source="author">
        <p>Методом реактивного магнетронного распыления на постоянном токе были синтезированы плёнки Ta2O5 (оксид тантала), TiO2 (оксид титана) и гетероструктуры Ta2O5/TiO2. На все плёнки тем же методом были осаждены металлические электроды для создания плёночных конденсаторов. По данным спектроскопии были найдены оптические характеристики плёнок: показатель преломления, n ~ 2.2; коэффициент пропускания, T ~ 70%; ширина оптической щели, E ~ 4.2 эВ. По измерениям вольт-фарадных характеристик были найдены значения диэлектрической проницаемости, &amp;#949; ~ 32 (для TiO2), 25 (для Ta2O5) и 30 (для Ta2O5/TiO2). По измерениям вольтамперных характеристик были найдены значения электрической прочности (напряжения пробоя), Ebd ~ 2 МВ/см и плотности токов утечки при нулевом смещении, J ~ 10-9 А/см2. Проведен анализ вольтамперных характеристик в температурном диапазоне (ВАХТ) на выявление природы токов утечки в диэлектриках. Были обнаружены следующие механизмы проводимости, формирующие токи утечки в диэлектриках: эмиссия Шоттки, полевая эмиссия с ловушек, туннелирование Фаулера-Нордгейма. Также было обнаружено и проанализировано влияние нагрева на токи утечки в диэлектриках. Были рассчитаны значения энергии активации, &amp;#969; ~ 0.39 эВ и глубины залегания ловушек, &amp;#966;t ~ 0.36 эВ.</p>
      </abstract>
      <abstract xml:lang="en" lang-variant="translation" lang-source="translator">
        <p>DC reactive magnetron sputtered Ta2O5 (tantalum oxide), TiO2 (titanium oxide) thin films and Ta2O5/TiO2 heterostructures were systematically studied on leakage current mechanisms. Shottky emission, field emission and Fowler-Nordheim tunneling were identified as dominant mechanisms for Ta2O5/TiO2 capacitors. Temperature-dependent current-voltage characteristics suggest thermionic activation of charge carries from Ta2O5/TiO2 hope levels that’s why was observed increasing of leakage current densities with heat treatment. By spectroscopic measurements were found Ta2O5/TiO2 optical properties: refractive index, n ~ 2.2; transmission coefficient, T ~ 70%; optical bandgap, Ebg ~ 4.2 eV. By capacitance-voltage and current-voltage measurements were found Ta2O5/TiO2 dielectric properties: dielectric constant, k ~ 32 for TiO2, 25 for Ta2O5 and 30 for Ta2O5/TiO2; dielectric strength (also known as breakdown voltage), Ebd ~ 2 MV/cm; leakage current density at zero bias, J ~ 10-9 A/cm2.</p>
      </abstract>
    </article-meta>
  </front>
</article>
